[ IBS-1300D ]离子溅射镀膜机
真空室尺寸：Φ1300 x 1000 (mm)
基板旋转机构：专利技术，10-100rpm无极可调
有效镀膜面积：370000平方毫米
溅射离子源：双射频离子源
辅助离子源：等离子体辅助离子源
溅射靶系统：靶材位置可调，配备多块靶材
光控系统/控制系统：透射式光学膜厚监控系统
安装：2500 x 3000 x 2850（mm),地板承重大于800kg/m2
基板旋转机构：专利技术，10-100rpm无极可调
有效镀膜面积：370000平方毫米
溅射离子源：双射频离子源
辅助离子源：等离子体辅助离子源
溅射靶系统：靶材位置可调，配备多块靶材
光控系统/控制系统：透射式光学膜厚监控系统
安装：2500 x 3000 x 2850（mm),地板承重大于800kg/m2
| 真空室尺寸 | Φ1300 x1000(mm) |
| 基板旋转机构 | 专利技术，10-100rpm无极可调 |
| 有效镀膜面积 | 370000平方毫米 |
| 溅射离子源 | 双射频离子源 |
| 辅助离子源 | 等离子体辅助离子源 |
| 溅射靶系统 | 靶材位置可调，配备多块靶材 |
| 光控系统/控制系统 | 透射式光学膜厚监控系统 |
| 安装 | 2500 x 3000 x 2850（mm）,地板承重大于800kg/㎡ |
| 特点 | 均匀性好，速度快，长时间连续工作，无需每次生产前花费长时间调整均匀性。 |
| 应用方向 | 适用： 1）工业激光薄膜产品 2）紫外薄膜产品的生产； 3）超低损耗薄膜产品的生产； 4）其他各类光学薄膜产品的生产。 |
