[ IBS-1040S ]离子溅射镀膜机
真空室尺寸：Φ1040 x1000(mm)
基板旋转机构：专利设计保证了高精度和高稳定，方便自动装载。
基板盘尺寸：70000~140000 （平方毫米）
溅射离子源：射频离子源
辅助离子源：射频栅网离子源/射频等离子体源/ DC 等离子体源
溅射靶系统：靶材位置可调，配备3或4块靶材
光控系统/控制系统：透射光学膜厚仪（350nm~1650nm)
安装：2500 x 2900 x 2800（mm）,地板承重大于800kg/㎡
基板旋转机构：专利设计保证了高精度和高稳定，方便自动装载。
基板盘尺寸：70000~140000 （平方毫米）
溅射离子源：射频离子源
辅助离子源：射频栅网离子源/射频等离子体源/ DC 等离子体源
溅射靶系统：靶材位置可调，配备3或4块靶材
光控系统/控制系统：透射光学膜厚仪（350nm~1650nm)
安装：2500 x 2900 x 2800（mm）,地板承重大于800kg/㎡
| 真空室尺寸 | Φ1040 x1000(mm) |
| 基板旋转机构 | 专利设计保证了高精度和高稳定，方便自动装载。 |
| 基板盘尺寸 | 70000~140000 （平方毫米） |
| 溅射离子源 | 射频离子源 |
| 辅助离子源 | 射频栅网离子源/射频等离子体源/ DC 等离子体源 |
| 溅射靶系统 | 靶材位置可调，配备3或4块靶材 |
| 光控系统/控制系统 | 透射光学膜厚仪（350nm~1650nm) |
| 安装 | 2500 x 2900 x 2800（mm）,地板承重大于800kg/㎡ |
| 特点 | 薄膜质量高可长时间连续生产 |
| 应用方向 | 适用： 1）高功率激光薄膜产品 2）医用光学薄膜产品 3）超低损耗薄膜产品 4）超低应力的薄膜产品 5）光通讯薄膜产品 |
