[ ALD-600 ]光学镀膜机
反应腔室尺寸：Φ300 x 600(mm)
基板尺寸：Φ50mm/Φ100mm / Φ150mm / Φ200mm / Φ306mm
源瓶标准配置：3个液态源瓶 + 2个固态源瓶 + 1个气体源瓶
（可升级配置）：3个液态源瓶 + 2个固态源瓶 + 3个气体源瓶
加热系统：腔体与固态源瓶管路配备加热系统，室温到300℃可调
辅助离子源（可选配）：RF 等离子体源
光学膜厚仪（可选配）：光谱椭圆偏振仪或光学膜厚仪
安装：1685 x 915 x 1420(mm)
基板尺寸：Φ50mm/Φ100mm / Φ150mm / Φ200mm / Φ306mm
源瓶标准配置：3个液态源瓶 + 2个固态源瓶 + 1个气体源瓶
（可升级配置）：3个液态源瓶 + 2个固态源瓶 + 3个气体源瓶
加热系统：腔体与固态源瓶管路配备加热系统，室温到300℃可调
辅助离子源（可选配）：RF 等离子体源
光学膜厚仪（可选配）：光谱椭圆偏振仪或光学膜厚仪
安装：1685 x 915 x 1420(mm)
| 反应腔室尺寸 | Φ300 x 600(mm) |
| 基板尺寸 | Φ50mm/Φ100mm / Φ150mm / Φ200mm / Φ306mm |
| 源瓶标准配置 | 3个液态源瓶 + 2个固态源瓶 + 1个气体源 |
| （可升级配置） | 3个液态源瓶 + 2个固态源瓶 + 3个气体源瓶 |
| 加热系统 | 腔体与固态源瓶管路配备加热系统，室温到300℃可调 |
| 辅助离子源（可选配） | RF 等离子体源 |
| 光学膜厚仪（可选配） | 光谱椭圆偏振仪或光学膜厚仪 |
| 安装 | 1685 x 915 x 1420(mm) |
| 特点 | 耐用，可实现选择性沉积 |
| 应用方向 | 适用： 1) 新能源镀膜产品的生产 2) 在各类复杂表面上的镀膜 3) 激光芯片的钝化薄膜生产 4) 光通讯镀膜产品的生产 5) 半导体领域中的镀膜 |
