2023-02-07 13:20:00
1.TMAI化学吸附到羟基化的Si表面。2.TMAl生成CH4的反应；通过惰性气体排除多余气体。3.TMAl与水蒸气反应4.惰性气体排除后，引入更多TMAl5.重复ALD循环导致AO：膜。
2023-02-07 13:09:23
核心成员有超过10年以上的相关研发工作经验，部分团队攻坚人员均有5年以上行业内经验。- 过往服务超过40+客户并获得一致好评。- 高精度离子溅射镀膜机/高精度磁控溅射镀膜机/ALD光学镀膜机填补了国内在该领域的多项空白。- 2000㎡办公、洁净厂房竣工；开始三款镀膜样机生产，已经申请发明专利6项，实用新型5项，10+项待申请
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