[ MS1100-DP ]磁控溅射镀膜机
真空室尺寸:966 x 1100 x 688 (mm)
极限真空/漏气速率:低于5E-5Pa / 低于9.0E-5Pa.m³/s
恢复真空:100分钟之内达到3E-4Pa(不加热)
基板旋转机构:中心驱动,10-1000rpm无极可调,转轴跳动<0.025mm /行星轮结
基板盘尺寸:Φ95mm / Φ150mm / Φ228mm / Φ304mm 或 行星轮 可选
光控系统 / 控制系统:透射式单/双光路光学膜厚分布监控系统(自研)/ 自研
阴极靶:8寸靶材 * 4
安装:3040 x 1225 x 2700(mm),地板承重大于1500kg/㎡
极限真空/漏气速率:低于5E-5Pa / 低于9.0E-5Pa.m³/s
恢复真空:100分钟之内达到3E-4Pa(不加热)
基板旋转机构:中心驱动,10-1000rpm无极可调,转轴跳动<0.025mm /行星轮结
基板盘尺寸:Φ95mm / Φ150mm / Φ228mm / Φ304mm 或 行星轮 可选
光控系统 / 控制系统:透射式单/双光路光学膜厚分布监控系统(自研)/ 自研
阴极靶:8寸靶材 * 4
安装:3040 x 1225 x 2700(mm),地板承重大于1500kg/㎡
真空室尺寸 | 966 x 1100 x 688 (mm) |
极限真空/漏气速率 | 低于5E-5Pa / 低于9.0E-5Pa.m³/s |
恢复真空 | 100分钟之内达到3E-4Pa(不加热) |
基板旋转机构 | 中心驱动,10-1000rpm无极可调,转轴跳动<0.025mm /行星轮结 |
基板盘尺寸 | Φ95mm / Φ150mm / Φ228mm / Φ304mm 或 行星轮 可选 |
光控系统 / 控制系统 | 透射式单/双光路光学膜厚分布监控系统(自研)/ 自研 |
阴极靶 | 8寸靶材 * 4 |
安装 | 3040 x 1225 x 2700(mm),地板承重大于1500kg/㎡ |
特点 | 耐用,膜厚均匀性非常好,成膜速度快,长时间连续工作 |
应用方向 | 光通讯用DWDM,CWDM,LDWM等各类光芯片的生产; 医用光学用各类荧光滤光片的生产; 车载雷达滤光片的生产; 3D人脸识别滤光片的生产。 |